HCFeSi65 ak HCFeSi68 se de klas komen nan ferrosilicon kabòn segondè, ak diferans prensipal yo kouche nan espesifikasyon Silisyòm ak kabòn yo: HCFeSi65 mande pou yon minimòm de 65% Silisyòm ak yon maksimòm de 15% kabòn, pandan y ap HCFeSi68 gen omwen 68% Silisyòm ak pèmèt jiska 18% kabòn. Nan pratik, HCFeSi68 delivre pi fò deoksidasyon ak pi gwo liberasyon chalè ègzotèmik akòz pi wo kontni Silisyòm li yo, ki fè li ideyal pou pwosesis asye konvètisè ki mande dezoksidasyon entans ak pi wo adisyon kabòn. Kontrèman, HCFeSi65, ak plafon kabòn ki pi ba li yo, pi byen adapte pou klas asye ki egzije kontwòl kabòn presi pou anpeche twòp-karburizasyon. Tou de klas yo kenbe menm limit ki ba pou fosfò ak enpurte souf. Seleksyon anjeneral depann sou konpozisyon an asye sib, entansite dezoksidasyon obligatwa, ak konsiderasyon pri, ak HCFeSi68 souvan pi pito pou deoksidasyon efikas ak optimize pwodiksyon an jeneral.
Achte bon kalite-matyè premyè metaliji:https://www.cnxhyy.com/
